今年的國際半導體展盛大登場，設備業者也積極展現最新科技。全球前三大設備業者TEL持續開發光阻劑的塗布技術以及曝光後顯影技術，EUV晶圓都要經過TEL的塗布顯影機台，在EUV製程中佔有重要角色。